Antiviral moss half mask

The Japanese Patent Office (JPO) published a patent application for the invention of a moss anti-virus half mask. The patent was applied by Professor Hazem Kalaji from SGGW and the virologist Dr Seiya Sato from the University of Pharmacy and Applied Life Sciences in Niigata, Japan. 

The invention concerns reusable anti-virus half-mask primarily against influenza viruses, but also ventilation mechanisms (elements) for buildings and vehicles, made of moss that can absorb viruses. 

The moss is placed in a thin layer of transparent material that allows it to photosynthesize while the mask is worn by the user. The user’s breathing provides the moss with adequate moisture and carbon dioxide. The moss, in turn, provides the user with oxygen for breathing. 

We keep our fingers crossed for the successful patent procedure! 

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